中国光谷科技会展中心

点击：3,363 次  来源：WSP 时间：09-30

设计/竣工: 2013年/-
总用地面积: 77541平方米
总建筑面积: 149473平方米
设计内容: 规划/建筑
项目性质: 酒店/总部办公基地/住宅

光谷科技会展中心位于光谷中心城核心地块，东接国采总部办公大楼，西临城市次干道松涛路并与省科技馆新馆隔路相望，北靠国采住宅区，南面城市为主干道——高新大道，地理位置优越，交通十分便利。规划总用地面积为77540.79平方米，其中净用地面积为54361.93平方米，代征用地面积23178.86平方米。总建筑面积149472.69平方米，含主体建筑科技会展中心，地上建筑面积76637.83平方米，层数三层；配套用房，地上建筑面积19765.56平方米，层数15层。另有地下建筑面积53069.3平方米，具备临时展览、设备机房、后勤服务及车库等功能。根据东湖新技术开发区2016年第二次国土规划管理工作例会纪要，本项目人防建设采取异地建设的方式。